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剝離成膜、厚膜成膜、低溫成膜
多功能型 真空蒸鍍?cè)O(shè)備     SEC-22C

凝聚了昭和真空之技術(shù)的最高端機(jī)型

概 要

1. 本機(jī)型的蒸發(fā)源系統(tǒng)采用了電子束式蒸發(fā)源。
   可以鍍制高熔點(diǎn)金屬膜或氧化物膜。
2. 蒸發(fā)速度以及膜厚都通過(guò)晶振式膜厚計(jì)進(jìn)行。
3. 主泵使用冷凝泵。
4. 操作控制系統(tǒng)為全自動(dòng)方式。

所需外部條件

所需電力

本體: Φ3 200V 約40kVA (115A)
蒸発源: Φ3 200V 約25kVA (73A)

所需水量

0.2MPa以上（差圧）
44 L/min、20～25°C
※冷卻水入口的最大壓力低于0.4MPa
※水質(zhì)相當(dāng)于城市用水

所需壓縮空氣

0.7MPa (設(shè)定圧: 0.5MPa)
連接口徑: Rc1/2

氣體壓力

0.05MPa (設(shè)定圧: 0.02MPa)
連接口徑: SWL 1/4

特長(zhǎng)

1. 搭配了蒸發(fā)源與基板夾具，可以獲得良好的膜厚分布。
2. 電子束式蒸發(fā)源采用6連式坩堝，可在同一真空中鍍制6種薄膜。
3. Φ75mm基板可收納30片，Φ100mm基板可收納20片，Φ150mm基板可收納9片。
4. 入射角±5°以內(nèi)可鍍膜。
5. 真空室里面的防著板,因?yàn)榉指钍剿?交換可能容易。
6. 基板清洗機(jī)構(gòu)以和速度陷井（選項(xiàng)）。

用途

1. 電極膜、保護(hù)膜
2. 剝離法鍍膜
3. 厚膜成膜
4. 低溫成膜

規(guī)格

可達(dá)真空度

6.7×10^-5 Pa以下

抽真空速度

20分鐘以內(nèi)從大氣壓到達(dá)4.0×10^-4 Pa

蒸発源

電子銃: 270° 偏向、電源16kW

基板加熱

Max 150°C, 常用 100°C

膜厚分布

±1%以內(nèi)（批量?jī)?nèi)、批量間） T/S=900mm

排氣系

冷凝泵，干式真空泵、機(jī)械增壓泵

真空槽

W800×D800×H1300 mm、SUS304製

設(shè)備尺寸

W3700×D4300×H2400 mm