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 最新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

 

◇ 節(jié)省空間

標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備占地面積為4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往機(jī)型占用空間更小，外形更加緊湊美觀。

◇ 低功耗

正常工作時(shí)的功耗約為3kVA，僅需以往機(jī)型耗電量的1/3。

◇ 高產(chǎn)能

具備高分辨率和高速兩種刻寫模式，非常適用于超微細(xì)加工以及批量生產(chǎn)。該設(shè)備減少了刻寫過程中的無謂耗時(shí)，并將掃描頻率提升至業(yè)界最高最水準(zhǔn)的125MHz (以往機(jī)型的1.25～2.5倍)，使其具備更高的生產(chǎn)能力。

◇ 機(jī)型

JBX-8100FS系列設(shè)有G1（基本版）和G2（全配版）兩種機(jī)型。G1機(jī)型裝機(jī)后也可進(jìn)行升級(jí)，使其支持更高的應(yīng)用需求。

◇ 新功能

安裝光學(xué)顯微鏡（選配）后，在避免光刻膠感光的的同時(shí)可對(duì)材料上的圖形進(jìn)行確認(rèn)。設(shè)備還配備了信號(hào)塔（標(biāo)配），實(shí)現(xiàn)了視覺范圍內(nèi)的系統(tǒng)運(yùn)行狀況監(jiān)控。

◇ 激光定位分辨率

采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀，對(duì)樣品臺(tái)位置進(jìn)行高精度的量測控制。

◇ 系統(tǒng)控制

配備了Linux®系統(tǒng)，圖形用戶界面使操作更加簡單，便于初學(xué)者使用。數(shù)據(jù)準(zhǔn)備程序支持Linux®和Windows®

 

備注：
Linux® 為Linus Torval在日本及其它國家的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。
Windows為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。

 

 主要技術(shù)指標(biāo)

機(jī)型	G1 (基本版)	G2 (全配版)
描畫方式	圓形束斑, 矢量掃描, 步進(jìn)重復(fù)移動(dòng)方式	←
加速電壓	100kV	100kV/50kV
電流	5×10-12　～　2×10-7A	←
寫場尺寸	最大1,000μm×1,000μm	最大2,000μm×2,000μm
掃描頻率	最大125MHz	←
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍	190mm×170mm	←
套刻精度	≦±9nm	←
場拼接精度	≦±9nm	←
正常工作時(shí)的功耗	3kVA	←
樣品尺寸	最大200mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小樣品。	←
材料傳送	（1張）自動(dòng)裝載系統(tǒng)	（12張）自動(dòng)裝載系統(tǒng)
主要選配件	光學(xué)顯微鏡   25kV加速電壓   數(shù)據(jù)準(zhǔn)備程序的追加授權(quán)